DEC.SRU™　の市場分野

軟包装、グラビア印刷、フレキソ印刷、ラミネート加工、コーティング、ラッカー塗装、自動車、航空宇宙、医薬品製造、接着剤・粘着テープコンバーティング、ラベル加工、基材加工、化粧品・パーソナルケア、発泡ポリスチレン（EPS）
DEC.SRU™は、化学プロセス、電池電極のコーティング、電子機器製造などにも対応します。

DEC.SRU™　の基本的な処理工程

1. ろ過
   溶剤を含む空気から粒子状物質を除去してから吸着床に送ります。これにより、活性炭の汚れや目詰まりを防ぎます。
2. 温度調整
   溶剤を含む空気を、吸着に適した温度に調整します。最適温度は、溶剤の混合状態やプロセス条件によって異なります。
3. 吸着
   溶剤を含む排気を活性炭吸着槽に通し、多孔質の吸着材にVOC溶剤蒸気を保持させます。
4. 再生
   吸着槽が所定の吸着量に達したら、選択した方式（窒素、蒸気、または真空）で再生し、保持された溶剤を脱着させます。
5. 凝縮
   脱着した溶剤を冷却して凝縮させます。必要に応じて、再生媒体から分離します。
6. 回収・再利用
   回収した溶剤を集めて再利用します。再生された吸着床は、次のサイクルに戻ります。

実際のサイクルの順序、再生温度、圧力、流量、凝縮条件は、溶剤の化学的性質、入口濃度、風量、湿度、必要な出口排出濃度、回収溶剤の仕様に合わせて設計されます。そのためDEC.SRU™は、すべての用途に同じ標準サイクルを適用するのではなく、プロセス設計、活性炭の選定、再生技術、凝縮、安全制御を組み合わせて構成されます。

 

DEC.SRU™の溶剤回収技術

DEC.SRU™には、対象となる溶剤、施設のユーティリティ、目標排出基準に応じて選択する4種類の技術があります。

• DEC.SRU_RSG™：TSA窒素（N₂）再生
• DEC.SRU_RSV™：TSA蒸気（H₂O）再生
• DEC.SRU_RTV™：T+VSA真空補助再生
• DEC.SRU_RSC™：直接凝縮

DEC.SRU™は、DEC独自の活性炭製造および吸着技術の知見を活用し、活性炭吸着性能を中心に設計されています。

DEC.SRU™再生技術の比較

技術	原理	回収・再生方式	代表的な用途	主な検討事項
DEC.SRU_RSG™	活性炭吸着	高温窒素／TSA	風量が変動する単一または複数溶剤の排気	不活性ガスによる再生。水分を含まない溶剤回収が必要な場合に適する
DEC.SRU_RSV™	活性炭吸着	蒸気／TSA	蒸気再生に適合する溶剤。特に水に溶けにくい溶剤	回収溶剤と水を下流工程で分離する必要がある
DEC.SRU_RTV™	活性炭吸着	加熱＋真空／T+VSA	風量が比較的少ない場合、または溶剤濃度が高い場合	真空補助脱着により再生要件を軽減し、減圧下での溶剤回収を支援できる
DEC.SRU_RSC™	直接凝縮	冷却	直接凝縮が技術的に可能な高濃度排気	性能は溶剤の蒸気圧、沸点、濃度、利用可能な冷却能力に大きく左右される

溶剤群別のDEC.SRU™回収事例

溶剤群	事例
アルコール類（エタノール、IPA、NPA）	DEC.SRU™によるアルコール溶剤回収
ケトン類（一般）	DEC.SRU™によるケトン溶剤回収
メチルエチルケトン（MEK）	DEC.SRU™によるMEK回収
メチルイソブチルケトン（MIBK）	DEC.SRU™によるMIBK回収
アセトン	DEC.SRU™によるアセトン回収
エステル類／酢酸エステル類（酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n-プロピル）	DEC.SRU™による酢酸エステル回収、酢酸エチル回収
芳香族溶剤 （トルエン、キシレン、ベンゼン／BTX）	DEC.SRU™によるBTX回収。溶剤別の事例：トルエン、キシレン、ベンゼン
脂肪族溶剤（ヘキサン、ヘプタン）	DEC.SRU™によるヘキサン回収、ヘプタン回収
N-メチル-2-ピロリドン（NMP）	DEC.SRU™によるNMP回収
シクロヘキサノン	DEC.SRU™によるシクロヘキサノン回収